半导体清洗用超纯水设备达到标准：

关于超纯水设备的出水水质有很多标准，对于不同企业生产过程中所有用到的纯水水质也有所不同，半导体行业要遵循我国电子工业的相关标准，并且水质稳定不会造成二次污染。

半导体清洗用超纯水设备特点：

半导体清洗用超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级，采用双极反渗透超过国家实验室一级用水标准。

半导体清洗用超纯水设备对于其主要产品的生产过程，起着非常重要的辅助作用，采用最新工艺结合我公司多年的经验研发而成，可以无人看守占地面积自动化程度高，设备的出水水质最高可达18.2兆，废水回收率可达到80%到90%以上。

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